反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统
  产品介绍：BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统、反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）系统用于反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）的等离子处理系统。BM8-II是一款定义反应离子
Ameritech 拍击式均质器
产品说明： 型号： AP-BM-400B电机功率： 165W有效容量： 30-400ml定时范围： 10秒至常开连续运转,可调可变速度： 6次/秒-9次/秒外观尺寸： 216*410*248mm主机质量： 18kg电源： 220V/50HZ实验室环境温度：2-30℃
郑州大手持气动打标机|
四、打标机工作原理: 打印内容输入计算机，计算机理成数据并输给智能控制器控制信号，智能控制器控制打印针在X-Y两维平面内按一定轨迹运动，同时打印针在压缩空气作用下作高频微冲击运动，从而在工件表面上打印出美观的凹形标记. 五、打标机基本特点: 采用WINDOWS操作系
台式隐形眼镜等离子清洗系统，迷你型台式等离子系统，台式等离子清洗系统
等离子体广泛的应用在隐形眼镜的生产中。等离子用来在镀膜前活化镜片材料，也可用来侵蚀表面，暴露出下面的表层。在这两个应用中等离子都可以替代难用的、耗时的、昂贵的湿化学方法。 用于制造隐形眼镜的玻璃带有铸型时产生的聚合物污染层和/或脱模剂。
自动连续稀释系统
应用领域：在菌落计数检验过程中，对样品进行连续梯度稀释。仪器简介：制造商： INLABTEC，瑞士  英莱伯泰科适用领域： 食品、药品、饮料企业品控和研发实验室及高校、科研院所、疾控中心的微生物和环境实验室等。